Koti > Uutiset > Samsung tilasi 15 EUV-tavaraa, ja laitteita on vaikea löytää

Samsung tilasi 15 EUV-tavaraa, ja laitteita on vaikea löytää

TSMC (2330) ilmoitti, että 7 nm: n voimakas versio ja 5 nm: n EUV-litografiateknologia on saatettu markkinoille menestyksekkäästi. Korean tiedotusvälineet kertoivat, että Samsung on tilannut 15 EUV-laitetta puolijohdelaitteiden valmistajalta ASML. Lisäksi Intel, Micron ja meri Lux suunnittelevat myös EUV-tekniikan käyttöönottoa, ja puuroja on niin paljon. Maailmanlaajuinen puolijohdeteollisuus on aloittanut taisteluun EUV (ultraviolettivalo) -laitteita.

TSMC ilmoitti äskettäin, että seitsemän nanometrin korkea hyötysuhdeprosessi, joka johtaa teollisuuden käyttöönottoon EUV-litografiateknologian, on auttanut asiakkaita pääsemään markkinoille suurina määrinä, ja 5 nanometrin massatuotanto vuoden 2020 ensimmäisellä puoliskolla otetaan myös markkinoille. EUV-prosessi. Korean tiedotusvälineiden mukaan Samsung on jo jo saavuttanut tavoitteen tulla maailman johtavaksi puolijohdevalmistajaksi vuonna 2030 ja ylittää valimojohtaja TSMC: n tarttuakseen puolijohdemarkkinoiden kysyntään, jonka 5G: n kaupallistaminen tuo seuraavien kahden tai kolmen vuoden aikana. maailmanlaajuisesti Litografiavalotuslaitteiden valmistaja ASML tilaa 15 edistynyttä EUV-laitetta.

Lisäksi Intel EUV-ohjelman päällikkö Britt Turkot sanoi, että EUV-tekniikka on valmis ja että se investoi paljon tekniikan kehittämiseen. Muistigiganit Micron ja Hynix suunnittelevat myös EUV-tekniikan käyttöönottoa. Nykyinen EUV-laite on kuitenkin vain ASML. Teollisuus arvioi, että ASML pystyy tuottamaan vain noin 30 EUV-laitetta vuodessa, ja laitteet muodostetaan suurten tehtaiden investoinneilla. Koneen löytäminen ja jonottaminen ja muut laitteet on vaikea löytää.

Koska EUV on erittäin lyhyen aallonpituuden, 13,5 nanometrin, voimakkaan valotekniikan avulla, se pystyy paremmin analysoimaan edistynyttä prosessisuunnittelua, vähentämään sirujen valmistusvaiheiden lukumäärää ja peitekerrosten lukumäärää ja aloittamaan kaupallisen muuntamisen 5G: n, nopea, korkea - taajuusominaisuudet, ja siru on miniatyyri ja pieni. Korkeista virrankulutusvaatimuksista on tullut tärkeä tekniikka Mooren lain jatkamiseksi.

Tätä monimutkaista ja kallista järjestelmää on kuitenkin vaikea hallita tuottamaan suuri määrä siruja. Vaikka Samsung ilmoitti ensimmäisen kerran EUV: n käyttöönotosta 7 nanometrin prosessissa, se on aiemmin ilmoittanut, että kiekkojen tuotanto ja tuotanto ovat riittämättömät. TSMC kertoi, miksi 7 nm: n käynnistys EUV: tä ei ole tuotu, ja uuden tekniikan käyttöönoton vuoksi on tarpeen käydä läpi oppimiskäyrä. TSMC on onnistuneesti oppinut kokemuksen 7 nm: n tehokkaasta versiosta ja osaa esitellä sujuvasti 5 nanometrin prosessin tulevaisuudessa.